|
Search / Korean Journal of Chemical Engineering
|
Total 3 articles [ 키워드: Dielectric Constant ] |
No. |
Article |
1 |
HWAHAK KONGHAK, 41 (4), pp.485-490 (2003) 불소화 처리가 폴리이미드 필름의 표면 및 유전특성에 미치는 영향 Influence of Fluorination on Surface and Dielectric Characteristics of Polyimide Thin Film 박수진, 조기숙, 김성현 |
2 |
HWAHAK KONGHAK, 40 (5), pp.592-595 (2002) 대기압하에서 비평형 플라스마 생성과 산화아연(ZnO)박막의 식각에의 응용 Generation of Non-Equilibrium Plasma Under Atmospheric Pressure and Its Application to Etching Processes of Zinc Oxide Films 이봉주 |
3 |
HWAHAK KONGHAK, 36 (6), pp.896-902 (1998) [2.2]Paracyclophane으로부터 패릴린-N 박막의 저온 증착 Low Temperature Vapor Deposition of Parylene-N Films from [2.2]Paracyclophane 김의정, 김선규, 박래학, et al. |
|
|